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光刻膠、配套試劑及相關(guān)化學(xué)品；
厚膠系列光刻膠、配套顯影液、去膠液、稀釋增粘劑、HMDS等各種光刻耗材
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厚 膠 |
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型號(hào) |
光源 |
類型 |
分辨率 |
厚度（um) |
適用范圍 |
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SU-8 GM10xx系列 |
g/h/i-Line |
負(fù)性 |
0.1um |
0.1-200 |
具有最大的高寬比，透明度高，垂直度極好。 |
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SU-8 Microchem |
g/h/i-Line |
負(fù)性 |
0.5um |
0.5-650 |
具有最大的高寬比，透明度高，垂直度極好。 |
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SPR220 |
g/h/i-Line |
正性 |
1um |
1—30 |
可用于選擇性電鍍電鍍，深硅刻蝕等工藝。 |
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AZ P4620 |
g/h/i-Line |
正性 |
0.1um |
10-15 |
高對(duì)比度，高感光性，高粘附性，適用于半導(dǎo)體和微電鍍。 |
三、光刻膠、配套試劑及相關(guān)化學(xué)品；
SU-8全系列光刻膠、配套顯影液、去膠液、稀釋增粘劑、HMDS等各種光刻耗材；
產(chǎn)品名稱：美國(guó)Microchem SU-8光刻膠
產(chǎn)品內(nèi)容：
SU- 8光刻膠是一個(gè)高對(duì)比度，環(huán)氧基光刻膠專為微加工和微電子等的應(yīng)用需要的厚膠，化學(xué)和熱穩(wěn)定的圖像. SU-8 2000是一種改進(jìn)的配方的SU- 8，SU-8已被廣泛用于通過(guò)MEMS制造多年。使用更快的干燥技術(shù)，極性更大的溶劑的系統(tǒng)改進(jìn)了涂層質(zhì)量，并增加了處理量. SU- 8 2000有12個(gè)標(biāo)準(zhǔn)粘度. 膜厚度的0.5到> 200微米可以通過(guò)一個(gè)單一的涂層過(guò)程實(shí)現(xiàn)。曝光和隨后的膜熱交聯(lián)的部分不溶于液體顯影劑。 SU- 8光刻膠有優(yōu)秀的成像特性，并能產(chǎn)生非常高的縱橫比結(jié)構(gòu)。 SU- 8光刻膠具有非常高的光傳輸性高于360納米，這使得它非常適合在很厚的薄膜附近的垂直側(cè)壁成像。SU-8光刻膠很適合永久性應(yīng)用中成像，固化并留在設(shè)備上.
SU-8 光刻膠 特點(diǎn)：
? 高縱橫比成像
? 0.5至>200μm的膜厚在單一的涂層
? 改進(jìn)涂料性能
? 快速干燥增加處理量
? 近紫外線（350-400nm）的處理
? 垂直側(cè)壁
Microchem SU-8 2025-2075-2150 同等轉(zhuǎn)速，厚度逐漸提高，可根據(jù)自己實(shí)驗(yàn)需求選擇具體的型號(hào)。目前SU-8光刻膠有2000系類和3000系列兩類產(chǎn)品，3000系列升級(jí)后對(duì)光刻膠的粘附力，產(chǎn)品精度等性能進(jìn)一步完善。
SU-8光刻膠 品牌：gersteltec
品牌： 瑞士GES公司提供多種不同組成的、基于IBM開(kāi)發(fā)的環(huán)氧樹(shù)脂膠SU-8光刻膠；
應(yīng)用：GES公司光感環(huán)氧樹(shù)脂光刻膠包括先進(jìn)的功能性SU-8光刻膠滿足并超越世界領(lǐng)先微系統(tǒng)器件廠商的需要，在半導(dǎo)體工業(yè)、微納米技術(shù)應(yīng)用領(lǐng)域具有較強(qiáng)的優(yōu)勢(shì)。使用傳統(tǒng)UV光刻技術(shù)等對(duì)超厚SU-8及功能性SU-8光刻膠進(jìn)行圖案化，廣泛用于MEMS、MOMES、UV-LIGA、顯示器、柔性顯示器、微流道、生物醫(yī)學(xué)、半導(dǎo)體、封裝、太陽(yáng)能、光子晶體、微燃料電池等領(lǐng)域。
GES公司開(kāi)發(fā)的SU-8及功能性SU-8光刻膠主要用于需要甩膠厚度大、高深寬比并且垂直側(cè)壁形狀的應(yīng)用；能夠使用幾種不同光刻技術(shù)如X射線、紫外及電子束曝光等進(jìn)行圖案制作。
1、GM1010和GM1020 電子束曝光應(yīng)用
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瑞士GES SU-8系列光刻膠 |
GM1010 |
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GM1040 |
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GM1050 |
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GM1060 |
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GM1070 |
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GM1075 |